1月23日，中微公司披露2025年業(yè)績(jī)預(yù)告。經(jīng)財(cái)務(wù)部門(mén)初步測(cè)算，公司預(yù)計(jì)2025年?duì)I業(yè)收入約123.85億元，較2024年增加約33.19億元，同比增長(zhǎng)約36.62%。2025年歸母凈利潤(rùn)為20.8億元至21.8億元，與上年同期相比將增加4.64億元至5.64億元，同比增長(zhǎng)約28.74%至34.93%。

中微公司表示，根據(jù)市場(chǎng)需求，公司加大研發(fā)力度，新產(chǎn)品數(shù)量快速增加。2025年全年公司研發(fā)投入約37.36億元，較2024年增長(zhǎng) 12.83 億元（增長(zhǎng)約 52.32%），研發(fā)投入占公司營(yíng)業(yè)收入比例約為30.16%。這也意味著中微公司的研發(fā)增長(zhǎng)快于營(yíng)收和凈利潤(rùn)增長(zhǎng)。

具體業(yè)務(wù)板塊：2025年刻蝕設(shè)備銷(xiāo)售約 98.32億元，同比增長(zhǎng)約35.12%； LPCVD和ALD等半導(dǎo)體薄膜設(shè)備收入5.06億元，同比增長(zhǎng)約 224.23%。

中微公司表示，公司針對(duì)先進(jìn)邏輯和存儲(chǔ)器件制造中關(guān)鍵刻蝕工藝的高端產(chǎn)品新增付運(yùn)量顯著提升，先進(jìn)邏輯器件中段關(guān)鍵刻蝕工藝和先進(jìn)存儲(chǔ)器件的超高深寬比刻蝕工藝實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定可靠的大規(guī)模量產(chǎn)。其中CCP方面，公司用于關(guān)鍵刻蝕工藝的單反應(yīng)臺(tái)介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品保持高速增長(zhǎng)，能夠全面覆蓋存儲(chǔ)器刻蝕應(yīng)用中各類(lèi)超高深寬比需求； ICP方面， 適用于下一代邏輯和存儲(chǔ)客戶(hù)用ICP刻蝕設(shè)備和化學(xué)氣相刻蝕設(shè)備開(kāi)發(fā)取得了良好進(jìn)展，加工的精度和重復(fù)性已達(dá)到單原子水平。到2025年底，刻蝕設(shè)備反應(yīng)臺(tái)全球累計(jì)出貨超過(guò)6800臺(tái)。公司的CDP產(chǎn)品部門(mén)先進(jìn)存儲(chǔ)器件和邏輯器件開(kāi)發(fā)的LPCVD, ALD等十多款導(dǎo)體和介質(zhì)薄膜設(shè)備已經(jīng)順利進(jìn)入市場(chǎng)， 并且設(shè)備性能完全達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。

對(duì)于營(yíng)收高增，中微公司表示，公司主營(yíng)產(chǎn)品等離子體刻蝕設(shè)備作為半導(dǎo)體前道核心設(shè)備之一，市場(chǎng)空間廣闊，技術(shù)壁壘較高。公司的等離子體刻蝕設(shè)備在國(guó)內(nèi)外持續(xù)獲得更多客戶(hù)的認(rèn)可，針對(duì)先進(jìn)邏輯和存儲(chǔ)器件制造中關(guān)鍵刻蝕工藝的高端產(chǎn)品新增付運(yùn)量顯著提升， 先進(jìn)邏輯器件中段關(guān)鍵刻蝕工藝和先進(jìn)存儲(chǔ)器件超高深寬比刻蝕工藝實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

此外，中微公司在南昌約14萬(wàn)平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地、上海臨港的約18萬(wàn)平方米的生產(chǎn)和研發(fā)基地已經(jīng)投入使用，保障了公司銷(xiāo)售快速增長(zhǎng)。

據(jù)大智慧VIP，截至1月23日收盤(pán)，中微公司漲3.99%，報(bào)收367.55元。